特許

J-GLOBAL ID：200903073616044225

有害物質処理装置の紫外線照射ランプの洗浄方法およびその装置

発明者： 浅野 昌道 ,  仙波 範明 ,  菅田 清 ,  西澤 丈裕
出願人/特許権者： 三菱重工業株式会社
代理人 (1件)： 光石 俊郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-316434
公開番号（公開出願番号）：特開2001-129592
出願日： 1999年11月08日
公開日（公表日）： 2001年05月15日
要約：

【要約】【課題】 紫外線照射ランプを処理槽から取り出すことなく洗浄することができる有害物質処理装置の紫外線照射ランプの洗浄方法およびその装置を提供する。【解決手段】 処理槽11内の原水1にオゾン発生器15からオゾンガス2を供給すると共に、処理槽11内に配設されたUVランプ13から紫外線を照射することにより、原水1に含まれている難分解性物質を分解処理する有害物質処理装置において、UVランプ13にスケール等が付着したら、処理槽11内の原水1のpHを酸性領域(pH4〜6)にするように酸溶液供給装置16から原水1に酸溶液4を添加することによりUVランプを洗浄した後、処理槽11内の原水1のpHを中性領域から弱アルカリ性領域の間(pH7〜9)となるようにアルカリ溶液供給装置17から原水1にアルカリ溶液5を添加するようにした。

請求項（抜粋）：

処理槽内の原水に酸化剤を供給すると共に、当該処理槽内に配設された紫外線照射ランプから紫外線を照射することにより、当該原水に含まれている難分解性物質を分解処理する有害物質処理装置の紫外線照射ランプの洗浄方法であって、前記処理槽内の前記原水のpHを酸性領域にして前記紫外線照射ランプを洗浄することを特徴とする有害物質処理装置の紫外線照射ランプの洗浄方法。

IPC (6件)：

C02F 5/00 610 ,  C02F 5/00 620 ,  B08B 3/08 ,  C02F 1/32 ZAB ,  C02F 1/72 ,  C02F 1/78

FI (6件)：

C02F 5/00 610 J ,  C02F 5/00 620 B ,  B08B 3/08 A ,  C02F 1/32 ZAB ,  C02F 1/72 Z ,  C02F 1/78

Fターム (28件)：

3B201AA46 ,  3B201AB42 ,  3B201BB02 ,  3B201BB05 ,  3B201BB92 ,  3B201BB96 ,  3B201CB12 ,  3B201CB15 ,  4D037AA11 ,  4D037AB11 ,  4D037AB14 ,  4D037AB16 ,  4D037BA18 ,  4D037BB09 ,  4D037CA11 ,  4D037CA12 ,  4D037CA14 ,  4D050AA12 ,  4D050AA13 ,  4D050AB19 ,  4D050BB02 ,  4D050BB09 ,  4D050BC09 ,  4D050BD02 ,  4D050BD03 ,  4D050BD06 ,  4D050BD08 ,  4D050CA13