特許
J-GLOBAL ID：200903073624930536
表面安定化装置および表面安定化方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-316498
公開番号（公開出願番号）：特開平9-162183
出願日： 1995年12月05日
公開日（公表日）： 1997年06月20日
要約：
【要約】【課題】半導体基板の表面を汚染することなく、短い処理時間で半導体基板の表面を酸化することができる表面安定化方法を提供する。【解決手段】半導体基板4を保持する手段3と、半導体基板4の近傍に半導体基板4に接触しないように固相または液相の酸化剤7を保持する手段と、UVランプ等の酸化剤7から気相の酸化性物質を生成する手段2とを具備する。
請求項（抜粋）：
半導体基板を保持する手段と、前記半導体基板の近傍に前記半導体基板に接触しないように固相または液相の酸化剤を保持する手段と、前記酸化剤から気相の酸化性物質を生成する手段とを具備することを特徴とする表面安定化装置。
IPC (3件)：
H01L 21/316
, H01L 21/26
, H01L 21/31
H01L 21/316 A
, H01L 21/31 A
, H01L 21/26 L
