特許

J-GLOBAL ID：200903073635614806

投影露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法

発明者： 吽野 靖行
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 高梨 幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-055008
公開番号（公開出願番号）：特開平8-008177
出願日： 1995年02月20日
公開日（公表日）： 1996年01月12日
要約：

【要約】【目的】 ステップアンドスキャン方式を用いた露光装置でパターンを照明する照明光束の偏光方位を適切に設定して高解像度を図った投影露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法を得ること。【構成】 スリット形状の照明光束で第1物体面上のパターンを照明し、該第1物体面上のパターンを投影光学系により可動ステージに載置した第2物体面上に該第1物体と該可動ステージを該スリット形状の短手方向に該投影光学系の投影倍率に対応させた速度比で同期させてスキャンさせながら投影露光する際、スキャンに同期させて該パターンの像を形成する光束の偏光状態を変える偏光変換手段を有すること。

請求項（抜粋）：

スリット形状の照明光束で第1物体面上のパターンを照明し、該第1物体面上のパターンを投影光学系により可動ステージに載置した第2物体面上に該第1物体と該可動ステージを該スリット形状の短手方向に該投影光学系の投影倍率に対応させた速度比で同期させてスキャンさせながら投影露光する際、スキャンに同期させて該パターンの像を形成する光束の偏光状態を変える偏光変換手段を有することを特徴とする投影露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (2件)：

H01L 21/30 518 ,  H01L 21/30 514 C