特許

J-GLOBAL ID：200903073646170691

ポリフエニレンスルフイドスルフオン中空糸膜およびその製造方法

発明者： 藤井 能成 ,  安食 宏俊
出願人/特許権者： 東レ株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-209589
公開番号（公開出願番号）：特開平5-049884
出願日： 1991年08月21日
公開日（公表日）： 1993年03月02日
要約：

【要約】【目的】耐熱性、耐薬品性、耐有機溶剤性に優れた内表面の平滑な多孔性中空糸膜を提供する。【構成】 一般式 -(Ar-S-Ar-SO2)n-(ここでArはフェニレン基を表す)で示される繰り返し構成単位を主として含むポリフェニレンスルフィドスルフォンからなる、高分子を多孔性中空糸膜に紡糸するにあたり、環状口金の中心から吐出される注入液体と該高分子の線速度比が0.85から2.0、ドラフト比が0.7から1.1の範囲とする。

請求項（抜粋）：

一般式 -(Ar-S-Ar-SO2)n- (ここでArはフェニレン基を表す)で示される繰り返し構成単位を主として含むポリフェニレンスルフィドスルフォンからなる、内表面が平滑かつマクロボイドによる欠点のない多孔性中空糸膜。

IPC (2件)：

B01D 71/68 ,  B01D 71/66