厚膜パターンの製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-230053
公開番号（公開出願番号）：特開平8-097537
出願日： 1994年09月26日
公開日（公表日）： 1996年04月12日
要約：

【要約】【目的】サンドブラスト法における厚膜パターン形成方法において、削り落とされたパターン形成材料の回収再利用を容易にする厚膜パターン製造方法を提供する。【構成】基板上にパターン形成材料をあらかじめ所定の膜厚で形成し、サンドブラスト用マスクをかいしてサンドブラスト処理をする事を特徴とするもので、特にサンドブラスト法の研磨材をドライアイスとしたことで特に良くなる。

請求項（抜粋）：

基板上にパターン形成材料をあらかじめ所定の膜厚で形成し、求めるパターンのサンドブラスト用マスクを介してサンドブラスト処理を行うことにより、目的とする厚膜パターンを得ることを特徴とする厚膜パターンの製造方法。

IPC (3件)：

H05K 3/04 , B24C 1/00 , B24C 1/04

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