特許

J-GLOBAL ID：200903073657071261

長円形水槽の均一攪拌方法

発明者： 大出 浩輔
出願人/特許権者： 日立機電工業株式会社
代理人 (1件)： 林 清明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-314343
公開番号（公開出願番号）：特開平7-136685
出願日： 1993年11月19日
公開日（公表日）： 1995年05月30日
要約：

【要約】【目的】 ディッチ内に流入する下水中に含まれる汚れた砂やシルトがディッチ内底部の底位置に堆積して嫌気腐敗するのを防止する。【構成】 オキシデーションディッチ法において、曝気槽1の中央仕切壁端部aから、槽のコーナー部外壁内側までの距離または中央仕切壁2から仕切壁延長線とガイドウォール内側との交点までの距離を調整可能にするために出入り可能な整流板5を設ける。そしてその整流板5を曝気槽内で運転する曝気装置の台数、設置位置及び角度の変化や曝気力の変化と連動して動作させてオキシデーションディッチを運転する。これによりコーナー部下流側の水圧の低下や、速度の低下を防止し、汚砂の堆積を防止する。

請求項（抜粋）：

オキシデーションディッチ法において、曝気槽の中央仕切壁端部から、槽のコーナー部外壁内側までの距離または中央仕切壁から仕切壁延長線とガイドウォール内側との交点までの距離を調整可能にするために設けた出入り可能な整流板を、その曝気槽内で運転する曝気装置の台数、設置位置及び角度の変化や曝気力の変化と連動して動作させてオキシデーションディッチを運転するようにしたことを特徴とする長円形水槽の均一攪拌方法。