特許

J-GLOBAL ID：200903073665596128

真空蒸着装置

発明者： 高津 和正 ,  高倉 英夫 ,  上野 和則
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 渡辺 徳廣
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-139110
公開番号（公開出願番号）：特開2000-328229
出願日： 1999年05月19日
公開日（公表日）： 2000年11月28日
要約：

【要約】【課題】 マスキング板に堆積した有機膜又は有機金属膜を容易に除去することができる真空蒸着装置を提供する。【解決手段】 蒸発源を備え、該蒸発源より有機材料又は有機金属材料を蒸発させ、基板上の特定部のみに有機膜又は有機金属膜を堆積させるマスキング板を使用する真空蒸着装置において、真空蒸着によりマスキング板に堆積した有機膜又は有機金属膜をプラズマの存在下で除去する手段を具備した真空蒸着装置。

請求項（抜粋）：

蒸発源を備え、該蒸発源より有機材料又は有機金属材料を蒸発させ、基板上の特定部のみに有機膜又は有機金属膜を堆積させるマスキング板を使用する真空蒸着装置において、真空蒸着によりマスキング板に堆積した有機膜又は有機金属膜をプラズマの存在下で除去する手段を具備したことを特徴とする真空蒸着装置。

IPC (3件)：

C23C 14/04 ,  C23F 4/00 ,  G09F 9/00 342

FI (3件)：

C23C 14/04 A ,  C23F 4/00 A ,  G09F 9/00 342 C

Fターム (15件)：

4K029BA62 ,  4K029CA01 ,  4K029DA09 ,  4K029DA12 ,  4K029HA03 ,  4K057DA01 ,  4K057DB17 ,  4K057DD01 ,  4K057DE20 ,  4K057DM40 ,  5G435AA17 ,  5G435BB05 ,  5G435EE33 ,  5G435KK05 ,  5G435KK10