水素貯蔵体

発明者：
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：西岡義明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-019769
公開番号（公開出願番号）：特開2001-208295
出願日： 2000年01月28日
公開日（公表日）： 2001年08月03日
要約：

【要約】【課題】本発明は、できるだけ大量の水素ガスを、軽量で運搬容易な、かつ低圧力で貯蔵することのできる水素貯蔵体を提供することを目的とする。【解決手段】本発明では、例えば触媒としてシリカに担持させた10wt%Ni-SiO2を反応槽1中の触媒充填容器3に40g充填する。反応槽2を赤外線ヒーター4で530°Cに加熱し、その後水素(1L/min)で60min触媒を還元してから、反応ガスの水素と二酸化炭素を反応槽1下部からH2:CO2=5:2.5(L/min)の流量で導入し、2時間反応させ、水素貯蔵体を製造する。

請求項（抜粋）：

一端もしくは両端がグラファイトで閉じられている内部空間を有するグラファイトナノファイバーに水素を貯蔵してなる水素貯蔵体。

IPC (5件)：

F17C 11/00 , B01J 20/20 , C01B 3/00 , C01B 31/02 101 , D01F 9/127

FI (5件)：

F17C 11/00 C , B01J 20/20 B , C01B 3/00 B , C01B 31/02 101 F , D01F 9/127

Fターム (21件)：

3E072AA10 , 3E072EA10 , 4G040AA33 , 4G046CA01 , 4G046CB01 , 4G046CB08 , 4G046CC06 , 4G046CC08 , 4G066AA04B , 4G066BA16 , 4G066CA38 , 4G066DA05 , 4G066FA17 , 4G066FA21 , 4L037CS03 , 4L037CS04 , 4L037FA03 , 4L037FA05 , 4L037PA06 , 4L037PA18 , 4L037UA20

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