特許

J-GLOBAL ID：200903073680189067

ポジ型レジスト組成物

発明者： 林 亮太郎 ,  岩井 武
出願人/特許権者： 東京応化工業株式会社
代理人 (5件)： 棚井 澄雄 ,  志賀 正武 ,  青山 正和 ,  鈴木 三義 ,  柳井 則子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-174862
公開番号（公開出願番号）：特開2005-010488
出願日： 2003年06月19日
公開日（公表日）： 2005年01月13日
要約：

【課題】解像性に優れ、広いPEBマージンを有するポジ型レジスト組成物を提供すること。【解決手段】(A)酸解離性溶解抑制基を有し、酸の作用によりアルカリ可溶性が増大するベース樹脂成分、及び(B)放射線の照射により酸を発生する成分を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記(A)成分は、193nmにおける吸光度が1.0(1/μm)以下であり、かつ分散度(Mw/Mn)が1.5以下であることを特徴とするポジ型レジスト組成物。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

(A)酸解離性溶解抑制基を有し、酸の作用によりアルカリ可溶性が増大するベース樹脂成分、及び(B)放射線の照射により酸を発生する酸発生剤成分を含有するポジ型レジスト組成物であって、 前記(A)成分は、193nmにおける吸光度が1.0(1/μm)以下であり、かつ分散度(Mw/Mn)が1.5以下であることを特徴とするポジ型レジスト組成物。

IPC (4件)：

G03F7/039 ,  C08F220/10 ,  G03F7/26 ,  H01L21/027

FI (4件)：

G03F7/039 601 ,  C08F220/10 ,  G03F7/26 501 ,  H01L21/30 502R

Fターム (33件)：

2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  2H096AA25 ,  2H096BA11 ,  2H096BA20 ,  2H096EA03 ,  2H096EA04 ,  2H096FA01 ,  2H096GA08 ,  2H096JA03 ,  2H096LA17 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100BA03R ,  4J100BA11Q ,  4J100BA15P ,  4J100BA16P ,  4J100BC09P ,  4J100BC09R ,  4J100BC12P ,  4J100BC53Q ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100JA38