特許

J-GLOBAL ID：200903073685992046

撮像装置および方法、並びに記録媒体

発明者： 後 輝行 ,  呉 偉国
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 稲本 義雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-112069
公開番号（公開出願番号）：特開2001-298655
出願日： 2000年04月13日
公開日（公表日）： 2001年10月26日
要約：

【要約】【課題】 計測対象物を2回撮像する時間を短縮する。【解決手段】 パターン光を照射した状態のステレオ画像、パターン光を照射していない状態のテクスチャ画像の順で撮像するようにすれば、考えられる最長の撮像時間は、ステレオ画像を撮像するときのシャッタ時間Tsとテクスチャ画像の1フレーム分の電荷を蓄積する時間Tfを加算した時間(Ts+Tf)となる。これは、逆の順序で撮像した場合の撮影時間(Tf+Tf)よりも短くなる。

請求項（抜粋）：

3次元形状計測に用いる画像信号を撮像する撮像装置において、計測対象物に対して非周期的なパターン光を投光する投光手段と、前記計測対象物の光画像を用いて複数のフレームの画像信号を生成する生成手段と、前記生成手段に対する前記計測対象物の前記光画像の入力を制限する制限手段と、前記投光手段、前記制限手段、および前記生成手段を制御して、非周期的な前記パターン光が投光された前記計測対象物のパターン画像信号と、非周期的な前記パターン光が投光されていない前記計測対象物のテクスチャ画像信号を、連続する前記フレームの画像信号として生成させるタイミング制御手段とを含み、前記タイミング制御手段は、前記制限手段が前記生成手段に対する前記計測対象物の前記光画像の入力を制限しない開放時間において、前記開放時間よりも短い時間だけ、前記投光手段に非周期的な前記パターン光を前記計測対象物に対して投光させることを特徴とする撮像装置。

IPC (5件)：

H04N 5/232 ,  G01B 11/00 ,  G06T 1/00 315 ,  H04N 5/225 ,  H04N 7/18

FI (5件)：

H04N 5/232 Z ,  G01B 11/00 H ,  G06T 1/00 315 ,  H04N 5/225 Z ,  H04N 7/18 C

Fターム (46件)：

2F065AA04 ,  2F065AA53 ,  2F065BB05 ,  2F065DD00 ,  2F065DD14 ,  2F065FF01 ,  2F065FF05 ,  2F065FF09 ,  2F065GG08 ,  2F065HH07 ,  2F065HH12 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ05 ,  2F065JJ26 ,  2F065KK01 ,  2F065LL30 ,  2F065NN12 ,  2F065PP23 ,  2F065QQ24 ,  2F065QQ25 ,  2F065QQ36 ,  2F065RR09 ,  2F065SS13 ,  2F065UU01 ,  2F065UU05 ,  5B057BA02 ,  5B057BA21 ,  5B057BA26 ,  5B057CA13 ,  5B057CB13 ,  5B057CE20 ,  5C022AA01 ,  5C022AB12 ,  5C022AB15 ,  5C022AB61 ,  5C022AB68 ,  5C022AC42 ,  5C022AC52 ,  5C022AC69 ,  5C054AA01 ,  5C054CA04 ,  5C054CC02 ,  5C054CH09 ,  5C054EA01 ,  5C054FD01 ,  5C054HA05