特許
J-GLOBAL ID:200903073687390930
偏光板の製造方法及び液晶表示装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
池内 寛幸 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-115658
公開番号(公開出願番号):特開2001-296427
出願日: 2000年04月17日
公開日(公表日): 2001年10月26日
要約:
【要約】【課題】高い光透過率と高い偏光率を両立させた偏光板の製造方法及び液晶表示装置を提供する。【解決手段】ポリビニルアルコール(PVA)フィルムを、2色性の性質をもつヨウ素または染料で染色し、架橋剤により架橋し、これらのいずれかの工程にてロールを用いて延伸して偏光板を製造する方法であって、2色性の性質をもつヨウ素または染料を0.02wt%以上含む染色浴で前記フィルムを染色後、架橋剤を含む浴で架橋させるに際し、PVA成膜原反から架橋浴に入る前までの延伸倍率を、1〜5倍の範囲とし、その後の架橋処理浴を含む以降の架橋中〜後の延伸倍率を、1.01倍以上4倍以下の範囲とし、かつ、PVA成膜原反から最終製品までのトータル延伸倍率が8倍以下の範囲とする。
請求項(抜粋):
ポリビニルアルコール(PVA)フィルムを、2色性の性質をもつヨウ素または染料で染色し、架橋剤により架橋し、これらのいずれかの工程にてロールを用いて延伸して偏光板を製造する方法であって、2色性の性質をもつヨウ素または染料を0.02wt%以上含む染色浴で前記フィルムを染色後、架橋剤を含む浴で架橋させるに際し、PVA成膜原反から架橋浴に入る前までの延伸倍率が、1〜5倍の範囲(ただし、染色浴中に架橋剤が入る場合は架橋前に含む)で、その後の架橋処理浴を含む以降の架橋中〜後の延伸倍率が、1.01倍以上4倍以下の範囲であり、かつ、PVA成膜原反から最終製品までのトータル延伸倍率が8倍以下の範囲であることを特徴とする偏光板の製造方法。
IPC (2件):
G02B 5/30
, G02F 1/1335 510
FI (2件):
G02B 5/30
, G02F 1/1335 510
Fターム (25件):
2H049BA03
, 2H049BA04
, 2H049BA27
, 2H049BB02
, 2H049BB33
, 2H049BB43
, 2H049BB45
, 2H049BB47
, 2H049BB51
, 2H049BB63
, 2H049BC14
, 2H091FA08X
, 2H091FA08Z
, 2H091FA11X
, 2H091FA14Z
, 2H091FA15Z
, 2H091FB02
, 2H091FC02
, 2H091FC03
, 2H091FC05
, 2H091FC07
, 2H091GA16
, 2H091HA10
, 2H091HA11
, 2H091LA30
引用特許:
審査官引用 (3件)
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特開平4-204907
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偏光フイルムの製造法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-287610
出願人:日本合成化学工業株式会社
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偏光フィルムの製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-206153
出願人:住友化学工業株式会社
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