過熱ゼオライトを用いてガスから水を除去する方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：中村稔 (外9名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-573455
公開番号（公開出願番号）：特表2002-526237
出願日： 1999年10月06日
公開日（公表日）： 2002年08月20日
要約：

【要約】ガスから微量水分を除去する方法が開示される。本方法は、シリカ/アルミナ比が大きいゼオライトを約400°Cに加熱して該ゼオライトから物理的に吸着した水を除去する工程、続いて該ゼオライトを650°Cを超える温度に加熱して過熱ゼオライトを形成する工程を含む。650°C以上の温度に加熱すると、該ゼオライトの脱ヒドロキシル化が引き起こされると思われる。脱ヒドロキシル化ゼオライトの調製方法も開示される。該過熱ゼオライトと該ガスとを接触させ、よって該ガスから水が吸着される。シリカ/アルミナ比が大きくかつ金属不純物が低レベルである、ガスから微量水分を除去する脱ヒドロキシル化ゼオライトも開示される。本発明の該ゼオライトと方法は、塩化水素又は臭化水素のような酸性ガスから微量水を除去するのに特に有効である。

請求項（抜粋）：

ガスから水を除去する方法であって、前記ガスとシリカ/アルミナ比が約10より大きいゼオライトとを接触させる工程を含み、該ゼオライトが前記ガスと接触する前に約650°Cより高い温度に加熱されている、前記方法。

IPC (3件)：

B01D 53/28 , B01J 20/18 , C01B 39/02

FI (3件)：

B01D 53/28 , B01J 20/18 A , C01B 39/02

Fターム (35件)：

4D052AA02 , 4D052GA04 , 4D052GB12 , 4D052GB13 , 4D052GB16 , 4D052GB18 , 4D052HA03 , 4G066AA61B , 4G066AE01B , 4G066BA09 , 4G066BA20 , 4G066BA32 , 4G066BA36 , 4G066BA38 , 4G066CA43 , 4G066DA05 , 4G066FA22 , 4G066FA34 , 4G066FA37 , 4G073BA04 , 4G073BA10 , 4G073BA36 , 4G073BD21 , 4G073CZ03 , 4G073CZ06 , 4G073CZ13 , 4G073CZ14 , 4G073CZ15 , 4G073CZ17 , 4G073CZ25 , 4G073DZ09 , 4G073FE04 , 4G073FE20 , 4G073GA01 , 4G073GA11

引用特許：

審査官引用 (2件)

特開昭55-092120
特開昭58-017833

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