特許

J-GLOBAL ID：200903073711682158

シミュレーション方法および変化予測方法および膜形状予測方法

発明者： 立田 真一 ,  佐藤 裕輔 ,  玉置 直樹 ,  小宮山 宏 ,  江頭 靖幸
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-047529
公開番号（公開出願番号）：特開平9-246189
出願日： 1996年03月05日
公開日（公表日）： 1997年09月19日
要約：

【要約】【課題】実際に起こる問題が確率的である対象の場合において、確率に左右されずに計算時間をほぼ一定にできるシミュレーション方法および変化予測方法および膜形状予測方法を提供する。【解決手段】運動する粒子の付着によって成膜あるいは食刻が行われる対象について数値シミュレーションを実行して膜形状を予測する際に、上記粒子が膜部位によって反射される現象を計算上では反射と付着とが同時に起こるものとして取り扱うことを特徴としている。

請求項（抜粋）：

事象が確率に依存して起こる対象について数値シミュレーションを実行する際に、前記確率に依存して起こる事象回数あるいは事象に起因する変化量を計算上で取り扱うに当たり、計算上で取り扱う事象回数あるいは変化量を実際の事象回数あるいは変化量よりも多くして扱うことを特徴とするシミュレーション方法。

IPC (10件)：

H01L 21/205 ,  C23C 16/52 ,  C30B 28/12 ,  C30B 29/06 504 ,  H01L 21/00 ,  H01L 21/3065 ,  H01L 21/31 ,  H01L 21/66 ,  H01L 29/00 ,  G06F 17/00

FI (10件)：

H01L 21/205 ,  C23C 16/52 ,  C30B 28/12 ,  C30B 29/06 504 Z ,  H01L 21/00 ,  H01L 21/31 Z ,  H01L 21/66 Z ,  H01L 29/00 ,  H01L 21/302 A ,  G06F 15/20 D