特許
J-GLOBAL ID:200903073717523132

カプセル超音波内視鏡装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 伊藤 進
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-148307
公開番号(公開出願番号):特開2004-350704
出願日: 2003年05月26日
公開日(公表日): 2004年12月16日
要約:
【課題】超音波内視鏡に設けられる超音波トランスデューサの鉛フリー及び性能のバラツキを防止した安価なカプセル超音波内視鏡装置を提供すること。【解決手段】超音波トランスデューサは、静電型超音波トランスデューサ(以下、c-MUT31とも記載する)31であり、シリコンプロセスで自動で製造される。c-MUT31は、複数のc-MUTセル31aを配列して形成される。複数のc-MUTセル31a,...,31aは微小所定ピッチで複数列、複数行で整列配置されている。c-MUTセル31aは、シリコン基板35上に形成された、信号入出力用電極である下部電極37d、シリコンメンブレン38及び接地電極である上部電極37uで主に構成され、真空空隙部40はシリコンメンブレン38の制動層になっている。複数のc-MUTセル31aが配列されるシリコン基板35にはアクセス回路形成部43や、配線電極44が設けられている。【選択図】図4
請求項(抜粋):
超音波を送受波して体腔内のエコー情報を得る超音波トランスデューサを備えたカプセル超音波内視鏡と、少なくとも前記カプセル超音波内視鏡から出力される超音波データを処理する超音波信号処理部を備えた超音波観測装置とを具備するカプセル超音波内視鏡装置において、 前記超音波トランスデューサを、シリコン半導体基板で形成したことを特徴とするカプセル超音波内視鏡装置。
IPC (3件):
A61B8/12 ,  A61B1/00 ,  A61B5/07
FI (3件):
A61B8/12 ,  A61B1/00 320B ,  A61B5/07
Fターム (21件):
4C038CC00 ,  4C038CC10 ,  4C061BB08 ,  4C061CC06 ,  4C061DD10 ,  4C061FF50 ,  4C061JJ01 ,  4C061JJ06 ,  4C061JJ11 ,  4C061LL02 ,  4C601BB02 ,  4C601BB03 ,  4C601EE10 ,  4C601EE13 ,  4C601EE23 ,  4C601FE01 ,  4C601FE02 ,  4C601GB05 ,  4C601GB06 ,  4C601GB41 ,  4C601GB42
引用特許:
審査官引用 (2件)
引用文献:
審査官引用 (1件)
  • A Cost-effective and Manufacturable Route to the Fabrication of High-Density 2D Micromachined Ultras

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