基板表面処理装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：京本直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-200657
公開番号（公開出願番号）：特開平10-050650
出願日： 1996年07月30日
公開日（公表日）： 1998年02月20日
要約：

【要約】【課題】ガラス基板のような大型の基板を薬液処理する基板表面処理装置において、薬液の回収率を高めかつ薬液のシミなどを残すことなく完全に薬液を基板から除去する。【解決手段】薬液19が表面に塗布され送られてくる基板18上の薬液19を回収する吸引ヘッド4と瞬時に薬液の代りにリンス液を基板に滴下する液置換ユニット9とを設け、薬液19を吸取り後の基板表面の乾燥を抑えながら薬液19を回収している。

請求項（抜粋）：

基板表面に薬液を噴霧しその後その薬液を除去ししかる後洗浄を行う基板表面処理装置において、前記薬液か塗布される前記基板を移動させながら該基板表裏面の前記薬液を吸取る一対の吸引ヘッドと、前記吸取られた該薬液の代りにリンス液を吐出し該薬液から前記リンス液に置換する液置換ユニットと、前記薬液から置換された前記リンス液を洗い流す水洗処理ユニットとを備えることを特徴とする基板表面処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/304 341 , H01L 21/027

FI (2件)：

H01L 21/304 341 N , H01L 21/30 569 D

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