特許

J-GLOBAL ID：200903073741357162

レチクル洗浄装置

発明者： 小林 高宏
出願人/特許権者： 山口日本電気株式会社
代理人 (1件)： 志賀 正武
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-233437
公開番号（公開出願番号）：特開平10-078649
出願日： 1996年09月03日
公開日（公表日）： 1998年03月24日
要約：

【要約】【課題】 レクチル洗浄時に、ゴミ除去率を向上させる。【解決手段】 絶縁体で形成されたレチクル洗浄槽1の内部に、洗浄液20中のレチクル8の表面のゴミ9を除去する超音波洗浄機構の振動子3を配設し、レチクル洗浄槽1の外部に、洗浄液20中のレチクル8の表面に付着したゴミ9を帯電させると共に帯電したゴミ9をレチクル洗浄槽1の内壁に引き寄せる電界印加機構2A,2Bを配設し、電界印加機構2A、2Bの極性を必要に応じて反転させるようにした。

請求項（抜粋）：

絶縁体で形成されたレチクル洗浄槽の内部に、洗浄液中のレチクルの表面のゴミを除去する超音波洗浄機構の振動子を配設し、レチクル洗浄槽の外部に、洗浄液中のレチクルの表面に付着したゴミを帯電させると共に帯電したゴミをレチクル洗浄槽の内壁に引き寄せる電界印加機構を配設したことを特徴とするレチクル洗浄装置。

IPC (6件)：

G03F 1/08 ,  B08B 3/10 ,  B08B 3/12 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304

FI (6件)：

G03F 1/08 X ,  B08B 3/10 Z ,  B08B 3/12 A ,  H01L 21/304 341 M ,  H01L 21/304 341 E ,  H01L 21/30 503 G