噴射加工方法及び噴射加工用マスク

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：加藤公久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-028830
公開番号（公開出願番号）：特開2002-239908
出願日： 2001年02月05日
公開日（公表日）： 2002年08月28日
要約：

【要約】【課題】チッピングの発生が少なく、高精度の加工が可能な安価で簡便な噴射法。【解決手段】該被加工物(1)の表面に、該表面と直接接触する第1の層(2)と該第1の層より厚い前記第2の層(3)とを含む複数の層を積層し、該被加工物に対する密着性において前記第1の層が前記第2の層より優れているように積層せしめる。少なくとも前記第2の層に所定のパターン(4)を形成する。前記第2の層に前記微細砥粒を噴射し、前記所定のパターンで定まる微細構造(5)を前記被加工物の表面に形成する。

請求項（抜粋）：

微細砥粒により被加工物を加工する方法であって、該被加工物の表面に、該表面と直接接触する第1の層と該第1の層より厚い前記第2の層とを含む複数の層を積層し、該被加工物に対する密着性において前記第1の層が前記第2の層より優れているように積層せしめるステップ、少なくとも前記第2の層に所定のパターンを形成するステップ、及び前記第2の層に前記微細砥粒を噴射し、前記所定のパターンで定まる微細構造を前記被加工物の表面に形成する加工ステップ、を備える噴射加工方法。

前のページに戻る