特許

J-GLOBAL ID：200903073765076466

溶液の塗布装置及び塗布装置の脱気方法

発明者： 豊島 範夫 ,  盛満 麻紀
出願人/特許権者： 芝浦メカトロニクス株式会社
代理人 (6件)： 鈴江 武彦 ,  河野 哲 ,  中村 誠 ,  蔵田 昌俊 ,  村松 貞男 ,  橋本 良郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-340817
公開番号（公開出願番号）：特開2005-103453
出願日： 2003年09月30日
公開日（公表日）： 2005年04月21日
要約：

【課題】 この発明は、ノズルを有するヘッド内の脱気を確実かつ能率よく行うことができるようにした塗布装置を提供することにある。【解決手段】溶液をインクジェット方式によって噴射するノズル14を有するヘッド7と、貯蔵タンク32とヘッド7とを接続した供給管21と、供給管に設けられ溶液の液面の高さを設定する供給タンク31と、ヘッドの脱気を行なう際に貯蔵タンクの溶液を加圧して供給タンクを通じてヘッドに供給するガス供給管46と、供給管の貯蔵タンクと供給タンクとの間の部分に設けられたアスピレータ33と、ヘッドとアスピレータの吸引口とを接続しヘッドに供給されてそのノズルから噴射せずにヘッド内を流れた溶液がアスピレータの吸引作用によって流れる回収管23とを具備する。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

基板に溶液を噴射塗布する溶液の塗布装置において、 上記溶液をインクジェット方式によって噴射するノズルを有するヘッドと、 上記溶液を貯蔵した貯蔵タンクと、 この貯蔵タンクと上記ヘッドとを接続した供給管と、 この供給管の中途部に設けられ上記基板に溶液を噴射塗布する際に上記溶液の液面の高さを設定する供給タンクと、 上記ヘッドの脱気を行なう際に上記貯蔵タンクに貯蔵された溶液を加圧してその溶液を上記供給タンクを通じて上記ヘッドに供給する加圧手段と、 流入口、流出口及び吸引口を有し、上記供給管の上記貯蔵タンクと上記供給タンクとの間の部分に流入口と流出口を介して設けられたアスピレータと、 上記ヘッドと上記アスピレータの吸引口とを接続し上記ヘッドに供給されてそのノズルから噴射せずに上記ヘッド内を流れた溶液が上記アスピレータの吸引作用によって流れる回収管と を具備したことを特徴とする溶液の塗布装置。

IPC (4件)：

B05C5/00 ,  B01D19/00 ,  B05C11/10 ,  B41J2/175

FI (6件)：

B05C5/00 101 ,  B01D19/00 B ,  B01D19/00 G ,  B01D19/00 102 ,  B05C11/10 ,  B41J3/04 102Z

Fターム (31件)：

2C056EA15 ,  2C056EC18 ,  2C056EC49 ,  2C056FB01 ,  2C056FB05 ,  2C056JA13 ,  2C056JC20 ,  2C056KA01 ,  2C056KB08 ,  2C056KB15 ,  2C056KC18 ,  2C056KD02 ,  4D011AA01 ,  4D011AA04 ,  4D011AA08 ,  4F041AA02 ,  4F041AA06 ,  4F041BA13 ,  4F041BA31 ,  4F041BA34 ,  4F041BA56 ,  4F042AA02 ,  4F042AA07 ,  4F042BA09 ,  4F042CA01 ,  4F042CB03 ,  4F042CB07 ,  4F042CB11 ,  4F042CB24 ,  4F042CC15 ,  4F042CC30