特許

J-GLOBAL ID：200903073775313601

酸化物焼結体、透明酸化物膜、ガスバリア性透明樹脂基板、ガスバリア性透明導電性樹脂基板およびフレキシブル表示素子

発明者： 中山 徳行 ,  阿部 能之
出願人/特許権者： 住友金属鉱山株式会社
代理人 (1件)： 鴨田 哲彰
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-121375
公開番号（公開出願番号）：特開2007-290916
出願日： 2006年04月25日
公開日（公表日）： 2007年11月08日
要約：

【課題】 高い成膜速度で成膜可能なスパッタリングターゲット用の酸化物焼結体を提供し、表面平滑性が良好で、屈折率が低くて透明性も高く、かつ、高いガスバリア性能を持つ透明酸化物膜を提供する。【解決手段】 酸化スズと、Si、Ge、Alからなる群から選ばれる少なくとも1種の添加元素とを含有し、添加元素は、添加元素とSnの含有量の総和に対して15原子%〜63原子%の割合で含まれ、結晶相の構成に、添加元素の金属相、添加元素の酸化物相、添加元素とSnの複合酸化物相のうちの1種以上が含まれ、添加元素の酸化物相、および、添加元素とSnの複合酸化物相は、平均粒径50μm以下の大きさで分散している酸化物焼結体を用いる。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

酸化スズと、Si、Ge、Alからなる群から選ばれる少なくとも1種の添加元素とを含有する酸化物焼結体において、該添加元素は、添加元素とSnの含有量の総和に対して15原子%〜63原子%の割合で含まれ、結晶相の構成に、添加元素の金属相、該添加元素の酸化物相、該添加元素とSnの複合酸化物相のうちの1種以上が含まれ、該添加元素の酸化物相、および、該添加元素とSnの複合酸化物相は、平均粒径50μm以下の大きさで分散していることを特徴とする酸化物焼結体。

IPC (4件)：

C04B 35/457 ,  C23C 14/34 ,  C23C 14/08 ,  B32B 9/00

FI (4件)：

C04B35/00 R ,  C23C14/34 A ,  C23C14/08 D ,  B32B9/00 A

Fターム (29件)：

4F100AA28B ,  4F100AB10B ,  4F100AB11B ,  4F100AK01A ,  4F100AK55 ,  4F100BA02 ,  4F100BA07 ,  4F100GB41 ,  4F100JD02 ,  4F100YY00B ,  4G030AA39 ,  4G030AA61 ,  4G030AA63 ,  4G030AA64 ,  4G030BA03 ,  4G030CA04 ,  4G030GA05 ,  4G030GA25 ,  4G030GA27 ,  4K029AA11 ,  4K029BA47 ,  4K029BA50 ,  4K029BC09 ,  4K029CA06 ,  4K029DC05 ,  4K029DC09 ,  4K029DC34 ,  4K029DC39 ,  4K029EA09

引用特許：

出願人引用 (5件)

• 特公昭53-12953号公報
  
• 特開昭58-217344号公報
  
• 特開昭64-59791号公報
  
• 有機エレクトロルミネッセンス表示パネル
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-291125   出願人：パイオニア株式会社
• ガスバリア性透明樹脂基板、ガスバリア性透明樹脂基板を用いたフレキシブル表示素子、およびガスバリア性透明樹脂基板の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-336219   出願人：住友金属鉱山株式会社

審査官引用 (3件)

• スパッタリングターゲット
  公報種別：再公表公報   出願番号：JP1999006566   出願人：株式会社ジャパンエナジィー
• ガスバリア性透明樹脂基板、ガスバリア性透明樹脂基板を用いたフレキシブル表示素子、およびガスバリア性透明樹脂基板の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-336219   出願人：住友金属鉱山株式会社
• スパッタリングターゲット並びに光情報記録媒体及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-394028   出願人：株式会社日鉱マテリアルズ