特許

J-GLOBAL ID：200903073780565473

プラズマ装置のクリーニング方法

発明者： 馬渕 博嗣
出願人/特許権者： 住友金属工業株式会社
代理人 (1件)： 河野 登夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-328145
公開番号（公開出願番号）：特開平5-144743
出願日： 1991年11月15日
公開日（公表日）： 1993年06月11日
要約：

【要約】【目的】 プラズマ室及び反応室内を大気中に曝すことなく、石英部品等の表面に堆積した堆積物を効率的に除去する。【構成】 プラズマ生成室1の周囲に配設した励磁コイル5に対する電流を変化させてプラズマ生成室1内、特にプラズマ放電管3内におけるECR 点位置を変位させ、塩素ガスを用いたECR プラズマによりプラズマ放電管3の内壁の堆積物を除去すると同時に、反応室2の上部壁を可動式のブロック15で構成し、プラズマ生成室1から反応室2へのプラズマ流と対向する位置に移動させ、ブロック15の壁面に堆積した堆積物も除去する。

請求項（抜粋）：

マイクロ波による電界と、周囲に配設された励磁コイルによる磁界との作用によって電子サイクロトロン共鳴励起によりプラズマを生成させるプラズマ室と、生成させたプラズマを導入して試料に処理を施す反応室とを備えるプラズマ装置のクリーニング方法において、前記プラズマ室にプラズマ生成用ガスを導入し、前記励磁コイルの電流を変化させて前記電子サイクロトロン共鳴励起点を前記プラズマ室内で変移させ、プラズマ室及び反応室内壁の付着物をクリーニングすることを特徴とするプラズマ装置のクリーニング方法。

IPC (5件)：

H01L 21/205 ,  C23F 4/04 ,  H01L 21/302 ,  H05H 1/46 ,  H01L 21/31