特許
J-GLOBAL ID：200903073789783937
露光装置及び露光方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
前田 均
, 西出 眞吾
, 大倉 宏一郎
, 佐藤 美樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-137037
公開番号（公開出願番号）：特開2004-342803
出願日： 2003年05月15日
公開日（公表日）： 2004年12月02日
要約：
【課題】遮光部材の駆動機構を簡略化するとともに、露光開始時及び終了時に規定されるショット領域の境界が走査方向に対して斜めになることを防止する。【解決手段】マスクMを保持するマスクステージ5上には、マスクMの一部を遮光する遮光板23aが設けられている。遮光板23aは駆動軸21a,27aに沿ってX方向に移動する可動部材22a,28aに支持されている。可動部材22a,28aの一方のみを移動させ又は双方を逆方向に移動させることで遮光板23aのY軸に対する角度を調整することができ、可動部材22a,28aを等速移動させることで遮光板23aをX軸に沿って平行移動させることができる。【選択図】 図5
請求項（抜粋）：
マスクと感光性の基板とを所定の方向に同期移動しつつ露光光により前記マスクのパターンを投影光学系を介して前記基板に転写する露光装置において、
前記マスクを保持するマスクステージとともに移動可能に設けられ、前記基板上に照射される前記パターンの像の外形形状の少なくとも一部を規定する遮光部材と、
前記マスクのパターンと前記遮光部材との相対位置の関係に応じて、前記遮光部材の姿勢を調整する調整装置とを備えたことを特徴とする露光装置。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01L21/30 515D
, G03F7/20 521
, H01L21/30 518
5F046BA05
, 5F046CB05
, 5F046CB25
, 5F046DA12
