特許

J-GLOBAL ID：200903073797514660

流体流通用シリカガラス板及びその製造方法

発明者： 川村 孝文
出願人/特許権者： 東芝セラミックス株式会社
代理人 (2件)： 波多野 久 ,  関口 俊三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-238094
公開番号（公開出願番号）：特開2004-079784
出願日： 2002年08月19日
公開日（公表日）： 2004年03月11日
要約：

【課題】特に、プラズマエッチング装置において、プラズマエッチング等の反応効率がよく、プラズマエッチング装置等の組込み装置の小型化が図れ、かつ、孔明け加工が容易な流体流通用シリカガラス板及びその製造方法を提供する。【解決手段】流体流通用シリカガラス板は、平板状のシリカガラス基板に多数の流体流通孔を有し、この流体流通孔は、その両端に、外方にいくに従って拡径する拡径部が設けられている。また、その製造方法である。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

平板状のシリカガラス基板に多数の流体流通孔が設けられた流体流通用シリカガラス板において、前記流体流通孔は、その両端に、外方にいくに従って拡径する拡径部が設けられていることを特徴とする流体流通用シリカガラス板。

IPC (5件)：

H01L21/3065 ,  B23K26/00 ,  C03B20/00 ,  C03B25/02 ,  C03B33/08

FI (5件)：

H01L21/302 101B ,  B23K26/00 330 ,  C03B20/00 K ,  C03B25/02 ,  C03B33/08

Fターム (16件)：

4E068AF01 ,  4E068AF02 ,  4E068AJ04 ,  4E068DA14 ,  4E068DB13 ,  4G014AH00 ,  4G015CA01 ,  4G015CB01 ,  4G015CB03 ,  4G015FA07 ,  4G015FB01 ,  4G015FB03 ,  4G015FC10 ,  5F004BA04 ,  5F004BB28 ,  5F004BC03