特許

J-GLOBAL ID：200903073798694360

基板処理装置

発明者： 大谷 正美 ,  今西 保夫 ,  辻 雅夫 ,  岩見 優樹 ,  西村 讓一 ,  森田 彰彦
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 大坪 隆司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-078991
公開番号（公開出願番号）：特開平10-256347
出願日： 1997年03月12日
公開日（公表日）： 1998年09月25日
要約：

【要約】【課題】 占有床面積を増大させることなく、基板あるいは薬液処理ユニットの昇温による処理不良を防止することのできる基板処理装置を提供することを目的とする。【解決手段】 基板処理装置は、基板搬送装置3を取り囲むように配置されたスピンコータ51およびスピンデベロッパ52を有する薬液処理部5と、この薬液処理部5の上方において基板搬送装置3を取り囲むように配置された複数のホットプレート61およびクールプレート62を有する熱処理部6とを備える。基板搬送装置3は、回転軸34を中心に回転する断面が略コの字状の支持部材35と、この支持部材35内を互いに独立して上下方向に移動する第1、第2の基板搬送機構31、32とを有する。第1の基板搬送機構31には、搬送アーム1a、1bが配設されており、第2の基板搬送機構32には搬送アーム2a、2bが配設されている。

請求項（抜粋）：

加熱処理ユニットおよび冷却処理ユニットを有し、当該加熱処理ユニットまたは冷却処理ユニットにより基板に対して熱処理を行う熱処理部と、薬液処理ユニットを有し、当該薬液処理ユニットにより基板に対して薬液処理を行う薬液処理部とを備え、これらの加熱処理ユニット、冷却処理ユニットおよび薬液処理ユニットに対して順次基板を搬送することにより、当該基板を処理する基板処理装置において、前記冷却処理ユニットおよび薬液処理ユニットに基板を搬送可能な第1基板搬送機構と、前記第1基板搬送機構の上方または下方に配設され、前記冷却処理ユニットおよび加熱処理ユニットに基板を搬送可能な第2基板搬送機構と、前記第1、第2基板搬送機構を互いに独立して上下方向に移動させる移動機構と、を備えたことを特徴とする基板処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/68 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

H01L 21/68 A ,  H01L 21/30 502 J ,  H01L 21/30 569 D

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-343898   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 搬送方法及び搬送装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-046413   出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-135796   出願人：大日本スクリーン製造株式会社