特許

J-GLOBAL ID：200903073800892190

ジアリールエタンの製法

発明者： オイゲン ゲーラー ,  クレメンス マッソネ ,  ヴォルフガング ハーダー
出願人/特許権者： ビーエーエスエフ アクチェンゲゼルシャフト
代理人 (1件)： 矢野 敏雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-183627
公開番号（公開出願番号）：特開平9-104645
出願日： 1996年07月12日
公開日（公表日）： 1997年04月22日
要約：

【要約】【課題】 改善されたジアリールエタンの製法の提供【解決手段】 式I:【化1】[式中、R1、R2、R3、R4、R5及びR6は、それぞれ、水素又はC1〜C8-アルキルを表す]のジアリールエタンを、式II:【化2】[式中、R2、R3、R4、R5及びR6は前記のものを表す]の芳香族化合物と、式III:【化3】[式中、R1は、前記のものを表す]のスチレンとを反応させることにより製造する方法において、反応をバッチ式又は連続式で、液相又は超臨界相中で、150〜350°C及び5〜200barで、酸性不均一触媒の存在下で実施することを特徴とする、式Iのジアリールエタンの製法

請求項（抜粋）：

式I:【化1】[式中、R1、R2、R3、R4、R5及びR6は、それぞれ、水素又はC1〜C8-アルキルを表す]のジアリールエタンを、式II:【化2】[式中、R2、R3、R4、R5及びR6は前記のものを表す]の芳香族化合物と、式III:【化3】[式中、R1は、前記のものを表す]のスチレンとを反応させることにより製造する方法において、反応をバッチ式又は連続式で、液相又は超臨界相中で、150〜350°C及び5〜200barで、酸性不均一触媒の存在下で実施することを特徴とする、式Iのジアリールエタンの製法。

IPC (5件)：

C07C 15/16 ,  B01J 29/06 ,  B01J 29/18 ,  C07C 2/70 ,  C07B 61/00 300

FI (5件)：

C07C 15/16 ,  B01J 29/06 Z ,  B01J 29/18 Z ,  C07C 2/70 ,  C07B 61/00 300