特許
J-GLOBAL ID:200903073811608834

蛍光X線分析装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 藤本 英夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平3-304198
公開番号(公開出願番号):特開平5-119000
出願日: 1991年10月23日
公開日(公表日): 1993年05月14日
要約:
【要約】【目的】 試料が液体であっても測定することができ、しかも、X線パス部の気圧や温度変化の影響を受けることなく、経済的に試料分析を行うことができる蛍光X線分析装置を提供すること。【構成】 試料6に対して空気層よりなるX線パス部7を介して一次X線14を照射し、試料から放出される二次X線16に基づいて試料分析を行うようにした蛍光X線分析装置において、前記一次X線14として単一エネルギーまたはそれに近い単色の一次X線を用いると共に、前記X線パス部7の気圧および温度を測定し、この測定された気圧および温度を用いて、前記蛍光X線および散乱X線の強度を補正し、この補正された蛍光X線と散乱X線との比をとるようにしている。
請求項(抜粋):
試料に対して空気層よりなるX線パス部を介して一次X線を照射し、試料から放出される二次X線に基づいて試料分析を行うようにした蛍光X線分析装置において、前記一次X線として単一エネルギーまたはそれに近い単色の一次X線を用いると共に、前記X線パス部の気圧および温度を測定し、この測定された気圧および温度を用いて、前記蛍光X線および散乱X線の強度を補正し、この補正された蛍光X線と散乱X線との比をとるようにしたことを特徴とする蛍光X線分析装置。
引用特許:
審査官引用 (4件)
  • 特開昭51-060591
  • 特開平2-257045
  • 特開昭60-061649
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