特許

J-GLOBAL ID：200903073812823500

真空アーク再溶解法

発明者： 高知尾 清孝
出願人/特許権者： 日立金属株式会社
代理人 (1件)： 大場 充
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-144625
公開番号（公開出願番号）：特開平7-003350
出願日： 1993年06月16日
公開日（公表日）： 1995年01月06日
要約：

【要約】【目的】 真空アーク再溶解において発生するホワイト・スポットや巨大凝集介在物群を著しく防止できる改良法を提供する。【構成】 真空または減圧不活性ガス雰囲気に調整されたタンク内の水冷モールド中で消耗電極を下部から上部に向かって連続的に再溶解する真空アーク再溶解法において、前記消耗電極の横断面積Aeとモールド内部の横断面積Aiの比Ae/Aiを0.75以上、または消耗電極径Deとモールド内径Diの比De/Diを0.866以上とすることを特徴とする真空アーク再溶解法。

請求項（抜粋）：

真空または減圧不活性ガス雰囲気に調整されたタンク内の水冷モールド中で消耗電極を下部から上部に向かって連続的に再溶解する真空アーク再溶解法において、前記消耗電極の横断面積Aeとモールド内部の横断面積Aiの比Ae/Aiを0.75以上、または消耗電極径Deとモールド内径Diの比De/Diを0.866以上とすることを特徴とする真空アーク再溶解法。