特許

J-GLOBAL ID：200903073825370385

六硼化ランタン膜の形成方法

発明者： 牧山 剛三 ,  二瓶 瑞久
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 北野 好人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-059496
公開番号（公開出願番号）：特開平9-249413
出願日： 1996年03月15日
公開日（公表日）： 1997年09月22日
要約：

【要約】【課題】 電子ビーム蒸着法により六硼化ランタン膜を形成する方法に関し、不純物混入の少ない良質な六硼化ランタン膜を形成する六硼化ランタン膜の形成方法を提供する。【解決手段】 六硼化ランタンよりなる蒸着用ソース12に電子ビーム14を照射して蒸着用ソース12を蒸発させ、被形成面上に六硼化ランタン膜を蒸着する六硼化ランタン膜の形成方法において、蒸着用ソース12の径を電子ビーム14の径とほぼ等しい径以上であって、且つ、電子ビーム14によって全体が略均一に加熱され得る径以下にする。

請求項（抜粋）：

六硼化ランタンよりなる蒸着用ソースに電子ビームを照射して前記蒸着用ソースを蒸発させ、被形成面上に六硼化ランタン膜を蒸着する六硼化ランタン膜の形成方法において、前記蒸着用ソースの径は前記電子ビームの径とほぼ等しい径以上であって、且つ、前記電子ビームによって全体が略均一に加熱され得る径以下であることを特徴とする六硼化ランタン膜の形成方法。

IPC (5件)：

C01B 35/04 ,  C23C 14/06 ,  C23C 14/30 ,  H01L 21/203 ,  H01L 21/3205

FI (5件)：

C01B 35/04 A ,  C23C 14/06 C ,  C23C 14/30 A ,  H01L 21/203 Z ,  H01L 21/88 M