特許
J-GLOBAL ID：200903073828803983
有機・無機高分子複合体の製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
石井 陽一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-134311
公開番号（公開出願番号）：特開平10-306109
出願日： 1997年05月08日
公開日（公表日）： 1998年11月17日
要約：
【要約】【課題】 高分子光導波路や他の光集積回路用材料として、低光損失で精密な屈折率制御が可能であり、耐熱性、耐湿性に優れ、所定の膜厚に成膜可能で材料の合成が簡易であり、材料コストが低く、耐溶剤性を有する有機・無機高分子複合体の製造方法を実現する。【解決手段】 シロキサン結合を有する無機マトリックス中に少なくともジビニルベンゼンを含有する重合体が分散された構造の有機・無機高分子複合体を合成する際に、加水分解性有機基を有する有機ケイ素化合物を用いて前記無機マトリクスを合成すると共に、前記重合体の重合を行う製造方法によりIPN構造の有機・無機高分子複合体を得る。
請求項（抜粋）：
シロキサン結合を有する無機マトリックス中に少なくともジビニルベンゼンを含有する重合体が分散された構造の有機・無機高分子複合体を合成する際に、加水分解性有機基を有する有機ケイ素化合物を用いて前記無機マトリクスを合成すると共に、前記重合体の重合を行う有機・無機高分子複合体の製造方法。
IPC (8件)：
C08F 2/44
, C01B 33/12
, C08F212/08
, C08F212/36
, C08K 3/36
, G02B 6/12
, G02B 6/13
, C08L 25/02
C08F 2/44 A
, C01B 33/12 Z
, C08F212/08
, C08F212/36
, C08K 3/36
, C08L 25/02
, G02B 6/12 N
, G02B 6/12 M
