特許

J-GLOBAL ID：200903073831809828

パターン膜の形成方法および形成装置

発明者： 新宅 秀信 ,  鈴木 茂夫 ,  三谷 力
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 粟野 重孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-128856
公開番号（公開出願番号）：特開平6-336670
出願日： 1993年05月31日
公開日（公表日）： 1994年12月06日
要約：

【要約】【目的】 溶射法などを適用した製膜におけるマスクが、支給された高速高温の粒子によって熱変形したり振動したりするのを防ぐ。そのほか、浮遊粒子の膜への混入防止、マスクのランニングコストの低減。【構成】 基板1に対して相対的に移動する溶射トーチ4から射出された粒子6が、マスク2で選択的に覆われた基板1の表面上に膜をつくる。溶射トーチ4とともに移動してマスク2上を転動するローラ10が、マスク2を基板1に押しつける。ローラ2を覆うフード11は集塵系吸引気流のガイドとして作用する。

請求項（抜粋）：

基板に対して相対的に移動する高速粒子発生手段から高速気流とともに射出させた粒子を、マスクで選択的に覆われた前記基板の表面上に支給してパターン膜を形成するさい、前記高速粒子発生手段とともに移動して前記マスク上を転動するローラによって前記マスクを前記基板の表面に押しつけることを特徴とするパターン膜の形成方法。