特許
J-GLOBAL ID：200903073837927490
光導波路の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
須山 佐一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-325405
公開番号（公開出願番号）：特開2004-157470
出願日： 2002年11月08日
公開日（公表日）： 2004年06月03日
要約：
【課題】伝送損失の低減および生産性の向上が可能な光導波路の製造方法を提供する。【解決手段】マスター基板上に形成された光導波路パターン用の凹部を蓋で覆い、凹部内に液状のコア材を注入、硬化させてコア層を形成した後、マスター基板から蓋を剥離する。光導波路パターン用の凹部にコア材を注入し硬化することで、コア層をマスター基板からの転写で形成することができ、光導波路の効率よい製造が可能となる。さらに、光導波路パターン用の凹部を蓋で覆った状態で凹部内にコア材が注入されることから、コア材が凹部から漏れ出して伝送効率の低下を招くことが防止される。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
マスター基板上に形成された光導波路パターン用の凹部を蓋で覆う被覆工程と、
前記蓋で覆われた凹部内に液状のコア材を注入する注入工程と、
前記注入工程で前記凹部内に注入されたコア材を硬化させてコア層を形成するコア層形成工程と、
前記マスター基板から前記蓋を剥離する剥離工程と、
を具備することを特徴とする光導波路の製造方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (11件)：
2H047KA04
, 2H047PA02
, 2H047PA21
, 2H047PA24
, 2H047PA26
, 2H047PA28
, 2H047QA02
, 2H047QA04
, 2H047QA05
, 2H047TA31
, 2H047TA42
