特許

J-GLOBAL ID：200903073844660670

オゾン吸着シリカゲルからのオゾン放出制御方法

発明者： 宮尾 茂雄 ,  若林 素子 ,  中川 洋 ,  齋田 順二 ,  豆田 武士
出願人/特許権者： 岩谷産業株式会社 ,  宮尾 茂雄 ,  若林 素子 ,  中川 洋
代理人 (1件)： 北谷 寿一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-058709
公開番号（公開出願番号）：特開平9-249510
出願日： 1996年03月15日
公開日（公表日）： 1997年09月22日
要約：

【要約】【課題】 殺菌能力に優れているオゾンを保存し、設定時間経過後オゾンガスを放出できるオゾンガス放出制御方法を提供する。【解決手段】 オゾンガスを吸着してなるシリカゲル(1)を気密性素材で形成した収納袋(2)に充填する。この収納袋(2)にガス連通孔を穿設する。オゾンガスを吸着してなるシリカゲル(1)を収容した収納袋(2)の外側をドライアイス(3)で包被する。ドライアイス(3)の昇華にともなう収納袋(2)内の温度上昇でシリカゲル(1)から放出するオゾンガスをガス連通孔(5)を介して収納袋(2)外に放出させる。

請求項（抜粋）：

オゾンガスを吸着してなるシリカゲル(1)を気密性素材で形成した収納袋(2)に充填し、この収納袋(2)にガス連通孔を穿設し、オゾンガスを吸着してなるシリカゲル(1)を収容した収納袋(2)の外側をドライアイス(3)で包被し、ドライアイス(3)の昇華にともなう収納袋(2)内の温度上昇でシリカゲル(1)から脱離したオゾンガスをガス連通孔(5)を介して収納袋(2)外に放出するようにしたオゾン吸着シリカゲルからのオゾン放出制御方法。

IPC (3件)：

A01N 59/00 ,  A01N 25/00 102 ,  A01N 25/34

FI (3件)：

A01N 59/00 A ,  A01N 25/00 102 ,  A01N 25/34 Z