特許

J-GLOBAL ID：200903073852322767

ネガ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法

発明者： 土屋 裕子 ,  鳥海 実 ,  上野 巧
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-313015
公開番号（公開出願番号）：特開平7-168361
出願日： 1993年12月14日
公開日（公表日）： 1995年07月04日
要約：

【要約】【目的】真空紫外光領域で透明性に優れかつドライエッチング耐性を持つネガ型レジスト組成物ならびにレジストパターン形成方法を提供する。【構成】側鎖にアルキル基または脂環族炭化水素基を有するポリシロキサンと、真空紫外光の照射によって分解し架橋剤を発生する化合物が溶けている混合物からなることを特徴としてネガ型レジスト組成物を構成する。

請求項（抜粋）：

側鎖にアルキル基または脂環族炭化水素基を有するポリシロキサンと、真空紫外光の照射により架橋反応を誘起する化合物が溶けている混合物からなることを特徴とするネガ型レジスト組成物。

IPC (5件)：

G03F 7/075 511 ,  G03F 7/038 505 ,  G03F 7/20 505 ,  G03F 7/30 ,  H01L 21/027