特許
J-GLOBAL ID：200903073854485710
プラズマエッチングモニター装置及びその方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
森本 義弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-204026
公開番号（公開出願番号）：特開平10-050673
出願日： 1996年08月02日
公開日（公表日）： 1998年02月20日
要約：
【要約】【課題】 エッチング・プロセスの安定性が確保でき、歩留りを向上することができるプラズマ・エッチング・モニター装置及びその方法を提供する。【解決手段】 プラズマ・エッチングの過程における終点情報を得るためその終点を検出する場合にも、ウエハ11上で発生するプラズマ・エッチング生成ガスの発生変化量を、合成二分子膜2を通じて水晶振動子1の振動数の変化量である積分量に基づいて検出するので、その検出を水晶振動子1の精度に従って、ppmないしppbオーダの精度で行える。
請求項（抜粋）：
半導体素子用のウエハをプラズマによりエッチングするプラズマエッチング装置において、そのプラズマエッチング用反応ガスによるプラズマエッチングの反応過程をモニターするプラズマエッチングモニター装置であって、前記プラズマエッチングの反応過程で生成される反応生成ガスを吸着する合成二分子膜が特殊被膜され固有の振動数を有する水晶振動子を前記プラズマエッチングの反応室の内部に設け、前記プラズマエッチングの反応過程における前記水晶振動子の振動数をカウントする振動数カウンタと、前記振動数カウンタによりカウントされた振動数の変化を電気信号に変換する変換器と、前記変換器からの電気信号をモニターし、そのモニター情報に基づいて、前記プラズマエッチング用反応ガスのプラズマエッチング反応室内への注入を制御するモニター制御装置とを備え、前記モニター制御装置を、そのモニター情報に基づいて、前記プラズマエッチングの反応過程における反応の開始前状態及び過渡状態を検出するよう構成したプラズマエッチングモニター装置。
IPC (5件)：
H01L 21/3065
, C23F 4/00
, G01N 1/28
, G01N 1/32
, G01N 5/02
H01L 21/302 E
, C23F 4/00 F
, G01N 1/32 B
, G01N 5/02 A
, G01N 1/28 G
