リソグラフィック素子の粒子汚染からの保護

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：杉村興作 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-547518
公開番号（公開出願番号）：特表2003-522400
出願日： 1999年03月26日
公開日（公表日）： 2003年07月22日
要約：

【要約】システム(100)は熱泳動を利用してリソグラフィック表面を粒子堆積から保護するものであり、大気圧以下にし得るほぼ一定の圧力の環鏡内で動作する。このシステム(熱泳動ペリクル)は、粒子堆積から保護すべき表面(125)を有するリソグラフィック素子(120)を囲む容器(110)を具える。この容器には、ガス流(127)を容器内に導入する手段(130)と少なくとも一つの開口(135)が設けられ、この開口が、例えば放射ビームの入射及び射出のためのリソグラフィック表面へのアクセス手段を与えるとともに、周囲の低圧力環境内へ流出するガス流を制御して容器内及び保護すべき表面上に高い圧力を維持する。リソグラフィック素子を加熱して、或いは容器の壁を冷却してリソグラフィック素子の表面と容器の壁との間に温度勾配を設定し、これにより熱泳動力によって粒子堆積を阻止することができる。

請求項（抜粋）：

表面を粒子堆積から保護する装置であって、 a)少なくとも一つのガス入口手段と少なくとも一つの開口が設けられたガスを含有する容器を具え、 b)前記容器内に収納された基板を具え、前記基板は前面及び背面を有し、前記開口が前記前面へのアクセス手段を与え、且つ c)少なくとも前記基板の前面と前記容器の壁との間に温度差を設定する手段を具え、前記前面が前記容器の壁より暖かいことを特徴とする保護装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , G03F 1/14 , G03F 7/20 521

FI (4件)：

G03F 1/14 Z , G03F 7/20 521 , H01L 21/30 503 G , H01L 21/30 503 E

Fターム (3件)：

2H095BE12 , 5F046AA21 , 5F046AA28

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開平3-094445
特開昭63-144537
特開平3-094445

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