特許

J-GLOBAL ID：200903073860031739

純水製造装置

発明者： 佐藤 嘉久 ,  小出 富士夫
出願人/特許権者： 日本錬水株式会社
代理人 (1件)： 岡田 数彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-313724
公開番号（公開出願番号）：特開2001-129550
出願日： 1999年11月04日
公開日（公表日）： 2001年05月15日
要約：

【要約】【課題】逆浸透膜モジュールから成る純水製造装置であって、供給水中のシリカ濃度が増加した際に惹起される逆浸透膜へのシリカのスケーリングや堆積を防止すると共に一定の透過水量を維持して安定した水量の純水が得られる様に改良された純水製造装置を提供する。【解決手段】逆浸透膜モジュールから成る純水製造装置であって、濃縮水中のシリカ濃度を検知し且つその値が一定となる様に供給水量と濃縮水量とを制御する供給/濃縮水量制御手段を設けて成る。

請求項（抜粋）：

逆浸透膜モジュールから成る純水製造装置であって、濃縮水中のシリカ濃度を検知し且つその値が一定となる様に供給水量と濃縮水量とを制御する供給/濃縮水量制御手段を設けて成ることを特徴とする純水製造装置。

IPC (2件)：

C02F 1/44 ,  B01D 61/12

FI (2件)：

C02F 1/44 H ,  B01D 61/12

Fターム (24件)：

4D006GA03 ,  4D006HA01 ,  4D006HA21 ,  4D006HA61 ,  4D006JA63Z ,  4D006KA12 ,  4D006KA33 ,  4D006KD30 ,  4D006KE02Q ,  4D006KE04P ,  4D006KE04Q ,  4D006MA01 ,  4D006MA02 ,  4D006MB02 ,  4D006MC18X ,  4D006MC45X ,  4D006MC54X ,  4D006MC60X ,  4D006MC62X ,  4D006PA02 ,  4D006PA05 ,  4D006PB04 ,  4D006PB23 ,  4D006PC03