特許
J-GLOBAL ID：200903073870202477
半導体製造システム及びその制御方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
伊東 忠彦
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-582826
公開番号（公開出願番号）：特表2003-533044
出願日： 2001年05月08日
公開日（公表日）： 2003年11月05日
要約：
【要約】半導体製造システムにおいて、複数の処理装置の運転は効率的に半導体装置を製造するように制御される。半導体製造システムは半導体基板に処理を施すための少なくとも一つの処理装置を有している。記憶部5は、半導体基板毎に施される処理の優先度を示す優先度データを格納する。制御部3,7は、処理装置に新たに投入される新規投入半導体基板に対応して供給される新規優先度データと、既に処理装置による処理が予定されている半導体基板に対応して記憶部に格納された優先度データとの比較に基づいて、処理装置が新たに投入される半導体基板に処理を施すように制御する。
請求項（抜粋）：
半導体基板に対して処理を施す少なくとも一つの処理装置を有する半導体製造システムであって、 記憶部は、前記半導体基板毎に施される処理の優先度を示す優先度データを格納し、 制御部は、前記処理装置に新たに投入される新規投入半導体基板に対応して供給される新規優先度データと、既に前記処理装置による処理が予定されている前記半導体基板に対応して前記記憶部に格納された優先度データとの比較に基づいて、前記処理装置が新たに投入される半導体基板に処理を施すように制御し、新たな優先度データは新たに供給される半導体基板に対応して供給されることを特徴とする半導体製造システム。
引用特許：
前のページに戻る
