特許
J-GLOBAL ID：200903073875947624
光学素子および光学素子作製用原盤の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉浦 正知
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-282117
公開番号（公開出願番号）：特開2009-109755
出願日： 2007年10月30日
公開日（公表日）： 2009年05月21日
要約：
【課題】反射防止特性に優れた光学素子およびそれを作製するための光学素子作製用原盤の製造方法を提供する。 【解決手段】光学素子は、凸部または凹部からなる構造体が基体表面に多数配置された構成を有している。構造体の配置ピッチが380nm〜680nmであり、構造体のアスペクト比が0.62〜1.09である。各構造体は、基体表面において複数列の円弧状トラックをなすとともに、準六方格子パターンをなすように配置されている。各構造体は、円弧状トラックの円周方向に長軸方向をもつ楕円錐形状または楕円錐台形状である。楕円錐形状または楕円錐台形状は、頂部の傾きが緩やかで中央部から底部に徐々に急峻な傾きを有する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
凸部または凹部からなる構造体が基体表面に多数配置された光学素子であって、
上記構造体の配置ピッチが380nm〜680nmであり、上記構造体のアスペクト比が0.62〜1.09であることを特徴とする光学素子。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (2件)：
引用特許：
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