特許
J-GLOBAL ID：200903073878989972
露光装置およびデバイス製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
伊東 哲也 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-100774
公開番号（公開出願番号）：特開平10-284393
出願日： 1997年04月04日
公開日（公表日）： 1998年10月23日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 より短時間で面位置を検出できるようにする。【解決手段】 広い検出領域での粗い面位置検出を行い、その結果に基づいて限定された狭い検出領域での高精度の面位置検出を行なって、被露光領域の面位置が投影光学系1の像面に一致するように被露光面の位置を制御しながら基板4上の被露光領域に対して走査露光を行う技術において、被露光領域の露光前に、被露光領域近傍の面位置を粗い面位置検出により検出し、走査露光中は、この検出結果を考慮し、複数のタイミングにおいて、高精度の面位置検出のみを行って被露光面の位置の制御を行う。あるいは、被露光領域が投影光学系の下に位置するようにステップ移動させ、被露光領域の面位置の検出を、被露光領域についてのステップ移動後の振動が静定する前に粗い面位置検出を行い、振動の静定後にその検出結果に基づいて検出領域を設定して高精度の面位置検出を行う。
請求項（抜粋）：
広い検出領域における粗い面位置検出および限定された狭い検出領域における高精度の面位置検出を行う面位置検出手段と、この面位置検出手段を用いて、被露光面中の被露光領域の面位置が投影光学系の像面に一致するように被露光面の位置を制御しながら被露光領域に対して走査露光を行う露光制御手段とを備えた露光装置において、露光制御手段は、被露光領域に対して露光を行う前に、被露光面中の被露光領域近傍の面位置を粗い面位置検出により検出し、走査露光中は、この検出結果を考慮し、複数のタイミングにおいて、高精度の面位置検出のみを行って前記被露光面の位置の制御を行うものであることを特徴とする露光装置。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01L 21/30 526 B
, G03F 7/207 H
, H01L 21/30 518
