特許

J-GLOBAL ID：200903073885091990

感光性樹脂組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法

発明者： 十二 美弥子 ,  佐々木 正樹 ,  斎藤 照夫
出願人/特許権者： 太陽インキ製造株式会社
代理人 (1件)： ▲吉▼田 繁喜
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-033565
公開番号（公開出願番号）：特開平11-218913
出願日： 1998年02月02日
公開日（公表日）： 1999年08月10日
要約：

【要約】【課題】 感度や解像性に優れ、安定したポジ型レジストパターンを形成し得る無溶剤型の感光性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法を提供する。【解決手段】 組成物は、(A)酸分解性エステル基を有する重量平均分子量1,000〜50,000の重合体、(B)1分子中に1個のエチレン性不飽和結合を有し、かつ、酸により分解してカルボン酸を生成する基を有する化合物、(C)活性エネルギー線の照射により酸を発生する化合物、及び(D)光ラジカル重合開始剤を含有する。この組成物の塗膜に、光ラジカル重合開始剤(D)は活性化するが、酸発生化合物(C)は活性化しない波長の活性エネルギー線を照射し、上記化合物(B)をラジカル重合させてタックフリーの塗膜を形成した後、上記酸発生化合物(C)を活性化する波長の活性エネルギー線を選択的に照射した後、加熱し、その部分をアルカリ水溶液により現像して除去し、レジストパターンを形成する。

請求項（抜粋）：

(A)酸分解性エステル基を有する重量平均分子量1,000〜50,000の重合体、(B)1分子中に1個のエチレン性不飽和結合を有し、かつ、酸により分解してカルボン酸を生成する基を有する化合物、(C)活性エネルギー線の照射により酸を発生する化合物、及び(D)光ラジカル重合開始剤を含有することを特徴とするポジ型の感光性樹脂組成物。

IPC (6件)：

G03F 7/028 ,  G03F 7/027 502 ,  G03F 7/033 ,  G03F 7/039 ,  G03F 7/38 ,  H05K 3/06

FI (6件)：

G03F 7/028 ,  G03F 7/027 502 ,  G03F 7/033 ,  G03F 7/039 ,  G03F 7/38 ,  H05K 3/06 H