特許
J-GLOBAL ID:200903073909604276

高透磁率磁性材料及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 後藤 洋介 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平3-258793
公開番号(公開出願番号):特開平5-074623
出願日: 1991年09月11日
公開日(公表日): 1993年03月26日
要約:
【要約】【目的】 低コストでしかも透磁率が高く通信機器等に用いられる酸化物磁性材料,それを製造するための方法,その中間生成物である酸化物仮焼粉末,及びその酸化物仮焼粉末を製造する方法を提供すること。【構成】 高透磁率磁性材料の中間生成物である酸化物仮焼粉末は,20〜30モル%の酸化マンガン(MnO),20〜30モル%の酸化亜鉛(ZnO)及び残部として酸化第二鉄(Fe2 O3 )からなる主成分に,添加物としてモリブデン(Mo)を0〜0.3重量%(0%は含まない)含有する。高透磁率磁性材料を製造するには,上記化学組成になるように,原料粉末中にMo又はMo化合物を添加して,700〜1100°Cの温度で焼成して酸化物仮焼粉末の製造する。次に,この酸化物仮焼粉末を用いて,高透磁率磁性材料を製造する。
請求項(抜粋):
20〜30モル%の酸化マンガン(MnO),20〜30モル%の酸化亜鉛(ZnO)及び残部として酸化第二鉄(Fe2 O3 )からなる主成分に,添加物としてモリブデン(Mo)を0〜0.3重量%(0%は含まず)含有することを特徴とする酸化物仮焼粉末。
IPC (3件):
H01F 1/36 ,  C01G 49/00 ,  H01F 1/34

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