特許
J-GLOBAL ID：200903073912559680
蒸着装置、及び薄膜製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
石島 茂男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-027284
公開番号（公開出願番号）：特開平9-195036
出願日： 1996年01月22日
公開日（公表日）： 1997年07月29日
要約：
【要約】【課題】 細長い管に代表される中空の被成膜対象物の内面に薄膜(特に化合物薄膜)を形成する技術を提供する。【解決手段】 内部が中空の被成膜対象物9の内面に薄膜を形成する場合に、蒸着材料が配置された導電性発熱体3を有する閉塞部材51、52でその開口部161、162を気密に閉塞し、真空排気しながら蒸着を行う。蒸着後、閉塞部材51、52に設けたガス導入孔41、42から反応性ガスを導入し、導電性発熱体3と被成膜対象物9との間に電圧を印加すると、反応性ガスのプラズマが発生し、被成膜対象物9内に形成された薄膜と反応性ガスとを反応させることができる。化学量論組成に近い化合物薄膜を得ることが可能となる。
請求項（抜粋）：
少なくとも一つの開口部を有し、内部が中空の被成膜対象物の内面に薄膜を形成する蒸着装置であって、前記開口部を気密に閉塞する閉塞部材と、蒸着材料が配置され前記閉塞部材に設けられた導電性発熱体とを有し、前記被成膜対象物の内部を真空排気できるように構成されたことを特徴とする蒸着装置。
IPC (3件)：
C23C 14/24
, C23C 14/06
, C23C 14/58
C23C 14/24 A
, C23C 14/24 H
, C23C 14/06 A
, C23C 14/58 Z
