特許
J-GLOBAL ID：200903073919089930
浸漬型基板処理装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
吉田 茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-283661
公開番号（公開出願番号）：特開平6-112185
出願日： 1992年09月28日
公開日（公表日）： 1994年04月22日
要約：
【要約】【目的】 アップフロー方式の処理槽を備えた浸漬型基板処理装置において、処理液の滞留を少なくし、パーティクルや重金属の基板への再付着を防止する。【構成】 処理槽11の底面部111の両隅に処理液供給パイプ12を配設し、当該底面部111に処理液供給パイプ12から噴出される処理液2の流出面の下面に沿って傾斜面を有する滞留防止斜面111aおよび111bを左右対称に設ける。
請求項（抜粋）：
処理液を貯溜する処理槽内に基板を浸漬させることにより前記基板の表面処理を行なう浸漬型基板処理装置において、前記処理槽底部に設けられ、上方の所定角度に向けて処理液を噴出するための噴出孔を有する処理液供給パイプと、前記処理槽外部に設けられ、前記処理液供給パイプに処理液を供給する処理液供給手段とを備え、前記処理槽底部には、前記処理液供給パイプから噴出された処理液が下方に回り込んで滞留域を形成するのを防止するための滞留防止斜面が形成されていることを特徴とする、浸漬型基板処理装置。
IPC (4件)：
H01L 21/304 341
, B05B 1/14
, B08B 3/04
, H01L 21/306
