溶融媒体浴を用いるディップ成形ゴム物品の硫化

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：山本秀策 , 安村高明 , 森下夏樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-128683
公開番号（公開出願番号）：特開2007-301999
出願日： 2007年05月14日
公開日（公表日）： 2007年11月22日
要約：

【課題】細孔を有さないゴム物品を提供すること。【解決手段】細孔を有さないゴム物品は、硫化剤を含む浸漬媒体中でディップ成形し、次いで化学的に不活性な加熱液体浴に、このディップ形成体を浸すことによって調製される。特に効果的な液体浴は、溶融無機塩である。さらに、すでに硫化した物品を硫化剤の溶液に浸して、この物品のゴムにこの溶液から硫化剤を吸収または吸入させ、次いで、このゴムおよび吸収された硫化剤を、加熱液体浴に浸して、硫化度を増大することによって、硫化したゴムの物品の引張り特性は、非常に効果的な程度まで改善され得る。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

ゴムの実質的に細孔を有さない物品の調製のための方法であって、該方法は、以下: (a)熱硫化可能組成物を含むラテックスに、形成部材を浸漬する工程であって、該組成物は、以下: (i)ゴム形成物質:および (ii)硫化剤、を含み、該形成部材は、該物品の外面に対して外形相補性を有する外面を有する、工程; (b)該形成部材を該ラテックスから、該外面上に該熱硫化可能組成物のフィルムが残るような様式で引き出す工程; (c)該形成部材上に該液体フィルムを有する該形成部材を、該硫化剤により該ゴム形成物質の硫化が生じるのに十分な温度および時間、化学的に不活性な液体浴に浸すことによって該ゴム形成物質を硫化させる工程;ならびに (d)該液体浴から該形成部材を引き出し、該実質的に細孔を有さないゴム物品を該形成部材から分離する工程、を包含する、方法。

IPC (1件)：

B29C 41/14

FI (1件)：

B29C41/14

Fターム (24件)：

4C081AC08 , 4C081AC10 , 4C081BB02 , 4C081BB07 , 4C081BC02 , 4C081CA121 , 4C081CA281 , 4C081DA03 , 4C081DB07 , 4C081EA03 , 4F205AA45 , 4F205AA46 , 4F205AB03 , 4F205AC05 , 4F205AH63 , 4F205AH64 , 4F205AH70 , 4F205AM32 , 4F205AR06 , 4F205GA08 , 4F205GB01 , 4F205GC01 , 4F205GN13 , 4F205GN29

引用特許：

出願人引用 (5件)

米国特許第2,868,859号
米国特許第2,975,151号
米国特許第3,755,232号

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