特許
J-GLOBAL ID：200903073921018692
グラフアイトの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小鍜治 明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-169874
公開番号（公開出願番号）：特開平5-017117
出願日： 1991年07月10日
公開日（公表日）： 1993年01月26日
要約：
【要約】【目的】 X線モノクロメーター、中性子線モノクロメーター、中性子線フィルター等の放射線光学素子として利用されるグラファイトの製造方法に関し、簡単な方法で、しかも、低コストで高配向性のブロック状のグラファイトを製造する。【構成】 原料の高分子フィルムを複数枚積層し、高分子フィルムの熱分解温度時の昇温速度を1°C/min以下にし、その後、加圧しつつ焼成しても高分子フィルム同士が融着しないようにする。これによって加圧しつつ焼成しても、分解ガスは高分子フィルム間を通ってスムーズに外部に放出され、発生ガスによって高分子フィルムが破壊に至るのを防ぐことができる。一方、加圧によって高分子フィルム内部に歪が入るのを防ぐことができる。
請求項（抜粋）：
複数枚の高分子フィルムを積層し、加圧、熱処理してグラファイトを製造するに際し、上記高分子フィルムを熱分解温度である450°Cから550°Cの間の温度の昇温速度が1°C/min以下になるように処理することを特徴とするグラファイトの製造方法。
IPC (2件)：
C01B 31/04 101
, C04B 35/54
