可変矩形荷電ビーム露光方法及び露光装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：京本直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-297555
公開番号（公開出願番号）：特開平5-217870
出願日： 1991年11月14日
公開日（公表日）： 1993年08月27日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】露光量補正を行い所望の線幅を精度良く形成する。【構成】予め所望線幅12に対応した矩形に固定し、その所望線幅に対応する近接効果変数の組を求めておき、これらの近接効果変数の組をテーブル14として電子線露光装置の制御部にインプットしておく。この近接効果変数の組を用いて最適露光量16を算出し、電子線露光を行う。

請求項（抜粋）：

基板上もしくは薄膜上の荷電ビームエネルギーを吸収して反応するレジストに可変矩形荷電ビームを照射し、所望パターンを露光する方法において、パターンのサイズ毎にそのサイズに対応する近接効果変数の組を用いて荷電ビーム露光を行うことを特徴とする可変矩形荷電ビーム露光方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 506

引用特許：

審査官引用 (16件)

特開平3-173119
特開昭63-186428
特開平2-238615

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