特許
J-GLOBAL ID：200903073933694413
V溝基板とその製造方法及び光ファイバーアレイ
発明者：
,
出願人/特許権者：
,
代理人 (1件)：
渡邉 一平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-084958
公開番号（公開出願番号）：特開2000-275478
出願日： 1999年03月26日
公開日（公表日）： 2000年10月06日
要約：
【要約】【課題】 ファイバーへの応力集中を防止し、全体としての応力も少なくすることができるV溝基板とその製造方法及びV溝基板を用いた光ファイバーアレイを提供する。【解決手段】 複数のV溝11を有するV溝部10と、平面部12と、V溝部10と平面部12を接続する段差部13とを備えたV溝基板14である。段差部13が、その表面方向に凸状に湾曲して形成されている。段差形状を有するガラス基板を成形する一次加工工程と、一次加工工程により得られた段差付きガラス基板に対し、V溝成形面を備えた上金型と下金型を用いてプレス成形を施す二次加工工程により、V溝部10と平面部12と段差部13とを備え、段差部13がその表面方向に凸状に湾曲したV溝基板14を成形する。
請求項（抜粋）：
複数のV溝を有するV溝部と、平面部と、該V溝部と該平面部を接続する段差部とを備えたV溝基板であって、該段差部が、その表面方向に凸状に湾曲して形成されていることを特徴とするV溝基板。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (3件)：
2H036LA03
, 2H036LA07
, 2H036LA08
