特許

J-GLOBAL ID：200903073946876499

基板処理装置および方法

発明者： 基村 雅洋
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 吉田 茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-302216
公開番号（公開出願番号）：特開2000-133629
出願日： 1998年10月23日
公開日（公表日）： 2000年05月12日
要約：

【要約】【課題】 有機溶剤を使用して基板の乾燥処理を行う場合に、基板へのパーティクル付着を抑制することができる基板処理装置を提供する。【解決手段】 外槽10の内部には、純水等の処理液を貯留して基板Wに洗浄処理等を行う処理槽20が配置されている。処理槽20内において純水による仕上洗浄処理が終了すると、吐出ノズル31から純水が水平方向に吐出され、処理槽20に貯留された純水表面を覆うような純水流が形成される。その後、IPA・N2供給ノズル50からIPA蒸気が供給され、処理槽20の上方にIPAの蒸気を含む雰囲気が形成される。さらに、その後、基板Wが純水流を通過してIPAの蒸気を含む雰囲気中にまで引き揚げられる。このときに、純水流がIPA蒸気と貯留された純水表面との接触を防止する障壁層として働き、気液界面におけるIPA層の形成を防ぎ、IPA層を介したパーティクル付着を抑制する。

請求項（抜粋）：

純水による浸漬洗浄処理が終了した基板を有機溶剤の蒸気を含む雰囲気中に移動させることによって前記基板の乾燥処理を行う基板処理装置であって、(a) 純水を貯留し、基板の前記浸漬洗浄処理を行う処理槽と、(b) 前記処理槽を収容する外槽と、(c) 前記外槽内に前記有機溶剤の蒸気を含む雰囲気を形成する有機溶剤雰囲気形成手段と、(d) 前記浸漬洗浄処理が終了した前記基板を前記処理槽から前記有機溶剤の蒸気を含む雰囲気中に引き揚げる引き揚げ手段と、(e) 前記処理槽の上方に液体を吐出し、前記処理槽に貯留された純水表面のうち少なくとも前記引き揚げ手段によって前記基板が引き揚げられる領域を覆う液流を形成する液流形成手段と、を備えることを特徴とする基板処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/304 651 ,  B08B 3/04

FI (2件)：

H01L 21/304 651 H ,  B08B 3/04 Z

Fターム (9件)：

3B201AA03 ,  3B201AB44 ,  3B201BB02 ,  3B201BB03 ,  3B201BB93 ,  3B201CB12 ,  3B201CC11 ,  3B201CD34 ,  3B201CD35