特許
J-GLOBAL ID：200903073952780665
パターンマッチング方法による被検査基板の位置ずれ検出方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
柳沢 大作
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-038996
公開番号（公開出願番号）：特開平9-211080
出願日： 1996年02月01日
公開日（公表日）： 1997年08月15日
要約：
【要約】【課題】 照射する外乱光や基準マークの状態等による影響を受け難くして、マーク位置検出性能を優れたものにする。【解決手段】 基準画像との類似度最大の検出画像の位置を正規化相関関数によって捜すパターンマッチング方法によって被検査基板の位置ずれを検出する際、その検出画像に含まれる各画素のグレーレベルをそれぞれ定数倍して、それ等の総和が基準画像に含まれる各画素のグレーレベルの総和とほぼ一致するように補正し、基準画像とその明るさ補正した検出画像とのパターンマッチング方法を実施する。
請求項（抜粋）：
基準画像との類似度最大の検出画像の位置を正規化相関関数によって捜すパターンマッチング方法によって被検査基板の位置ずれを検出する方法において、上記検出画像に含まれる各画素のグレーレベルをそれぞれ定数倍して、それ等の総和が基準画像に含まれる各画素のグレーレベルの総和とほぼ一致するように補正し、基準画像とその明るさ補正した検出画像とのパターンマッチング方法を実施することを特徴とするパターンマッチング方法による被検査基板の位置ずれ検出方法。
IPC (3件)：
G01R 31/28
, G01B 11/00
, G06T 7/00
G01R 31/28 J
, G01B 11/00 H
, G06F 15/62 405 C
, G06F 15/70 455 A
