特許

J-GLOBAL ID：200903073962004620

ジアリールエテン系化合物

発明者： 椛澤 誠 ,  石川 篤 ,  藤野 泰光 ,  堀川 幸雄 ,  入江 正浩
出願人/特許権者： 鐘紡株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-350953
公開番号（公開出願番号）：特開平6-199846
出願日： 1992年12月04日
公開日（公表日）： 1994年07月19日
要約：

【要約】【構成】 下記一般式(1)にて示されるジアリールエテン系化合物。【化1】(但し、式中nは2〜5の整数を表す。Aは一般式(2)【化2】を表し、R1 、R2 はアルキル基、R3 〜R6 は水素原子、アルキル基、ジアルキルアミノ基又はアルコキシ基を表す。Bは一般式(3)【化3】を表し、mは1または2の整数、R7 はアルキル基、R8 〜R15は水素原子、アルキル基、ジアルキルアミノ基、シアノ基、ニトロ基またはアルコキシ基を表す。)【効果】 熱安定性、耐湿性、感度に優れ、かつ着消色の繰り返し耐久性がの好なフォトクロミック性を有し、性能の優れた可逆的光記録材料などに有効に利用することが出来る。

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)にて示されるジアリールエテン系化合物。【化1】(但し、式中nは2〜5の整数を表す。Aは一般式(2)【化2】を表し、R1 、R2 はアルキル基、R3 〜R6 は水素原子、アルキル基、ジアルキルアミノ基又はアルコキシ基を表す。Bは一般式(3)【化3】を表し、mは1または2の整数、R7 はアルキル基を表し、R8 〜R15は水素原子、アルキル基、ジアルキルアミノ基、シアノ基、ニトロ基またはアルコキシ基を表す。)

IPC (7件)：

C07D409/08 209 ,  C09K 9/02 ,  G03C 1/73 503 ,  C07D495/04 103 ,  C07D409/08 ,  C07D209:00 ,  C07D333:00