特許

J-GLOBAL ID：200903073969935816

研磨用砥粒分散剤及び研磨用スラリー

発明者： 山田 康博 ,  山口 武亮
出願人/特許権者： 三洋化成工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-117074
公開番号（公開出願番号）：特開2001-300285
出願日： 2000年04月18日
公開日（公表日）： 2001年10月30日
要約：

【要約】【課題】 研磨速度及び表面粗さの改善された研磨用砥粒分散剤及び研磨用スラリーを提供する。【解決手段】 特定の単量体の重合体を含むことを特徴とする砥粒分散剤と砥粒、水からなる研磨用スラリーを使用する。

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)で表される(a)及び/又は一般式(2)で表される(b)からなる単量体の重合体(A)を含むことを特徴とする研磨用砥粒分散剤(I)。 一般式 R1-O-[(C2H4O)m1/(C3H6O)n1]-R2 (1){式中、R1は炭素数2〜5のアルケニル基であり、R2は水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基である。m1は1〜30の整数、n1は0又は1〜10の整数である。n1≠0のとき、[(C2H4O)m1/(C3H6O)n1]は、ランダム状付加又はブロック状付加を示し、付加順序は問わない。} 一般式 R3-COO-[(C2H4O)m2/(C3H6O)n2]-R4 (2){式中、R3は炭素数2〜5のアルケニル基であり、R4は水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基である。m2は1〜30の整数、n2は0又は1〜10の整数である。n2≠0のとき、[(C2H4O)m2/(C3H6O)n2]は、ランダム状付加又はブロック状付加を示し、付加順序は問わない。}

IPC (7件)：

B01F 17/42 ,  B01F 17/34 ,  B01F 17/56 ,  B24B 37/00 ,  C09K 3/14 550 ,  C09K 3/14 ,  H01L 21/304 622

FI (7件)：

B01F 17/42 ,  B01F 17/34 ,  B01F 17/56 ,  B24B 37/00 H ,  C09K 3/14 550 C ,  C09K 3/14 550 Z ,  H01L 21/304 622 D

Fターム (12件)：

3C058AA07 ,  3C058CA05 ,  3C058CA06 ,  3C058CB01 ,  3C058CB03 ,  3C058DA02 ,  3C058DA12 ,  4D077AB20 ,  4D077AC05 ,  4D077DC19Z ,  4D077DC26Z ,  4D077DC32Z